柱靶磁控溅射镀膜机

                                                                              - 设备优势：靶材使用周期与利用效率高
                                                                              - 替代工艺：电镀替代，提高薄膜硬度性能
                                                                              - 溅射靶材：柱靶、Cr,Al,Ti,Au,Ag...
                                                                              - 使用技术：磁控溅射

                                                                              - Target life cycle and utilization efficiency
                                                                              - High refractive index nitride film to improve film hardness
                                                                              - Sputtering target: Nb,Si,Cr,Al,Ti,Au,Ag ..
                                                                              - Technology: Magnetron Sputtering