平面靶磁控溅射镀膜机

                                                                  - 设备优势：克服阳极消失现象，减弱或消除靶的异常弧光放电
                                                                  - 使用技术：中频磁控溅射
                                                                  - 适用靶材：平面靶，李生靶，对靶等多种形式

                                                                  - Overcome the phenomenon of anode disappearance, reduce or eliminate the abnormal arc discharge of target
                                                                  - Technology : MF magnetron sputtering
                                                                  - Plane target, cylindrical target, twin target, opposite target etc.